[发明专利]一种铜锌锡硫薄膜材料的制备方法无效
申请号: | 201110453334.0 | 申请日: | 2011-12-30 |
公开(公告)号: | CN102496659A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
发明(设计)人: | 赖延清;赵联波;李轶;刘芳洋;李劼;刘业翔;苏正华;张坤;贾明 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人: | 颜勇 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 一种铜锌锡硫薄膜材料的制备方法,包含以下步骤:铜箔基材表面除油、电化学抛光、活化预处理,铜箔基材表面采用磁控溅射法、蒸发法、激光脉冲沉积法、电沉积法中的一种沉积金属锌和锡形成金属预制层,金属预制层于保护气氛中在含硫气氛下进行高温退火处理后置于碱性KCN溶液中进行刻蚀处理。本发明采用铜带作为柔性基底和背接触导电材料,大大节约了昂贵金属钼的使用,降低了生产成本;其中过量铜形成的Cu-S相有利于铜锌锡硫晶粒的长大,减少了载流子复合中心、增大了光电转化效率;利用本发明方法制备铜锌锡硫薄膜材料,易于大规模生产,有利于该材料在薄膜太阳能电池工业中的推广与应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜锌锡硫 薄膜 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种铜锌锡硫薄膜材料的制备方法,包含以下步骤:第一步:铜箔基材表面预处理将铜箔基材表面除油、电化学抛光、活化;第二步:铜箔基材表面沉积金属锌和锡形成金属预制层在第一步处理得到的铜箔基材表面沉积金属锌和锡,所述沉积采用磁控溅射法、蒸发法、激光脉冲沉积法、电沉积法中的一种;第三步:金属预制层在含硫气氛下进行高温退火处理将第二步所得的表面沉积有金属锌和锡的铜箔基材置于保护气氛中,加热至200~600℃,通过载气输入硫源,对锌和锡金属预制层进行高温退火处理;第四步:刻蚀处理将第三步处理后的铜箔置于碱性KCN溶液中进行刻蚀处理,刻蚀处理后采用去离子水对薄膜表面进行清洗、烘干即得到铜锌锡硫薄膜材料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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