[发明专利]一种用于分析立方织构演变过程的截面样品制备方法无效
申请号: | 201110421624.7 | 申请日: | 2011-12-15 |
公开(公告)号: | CN102519777A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 索红莉;王营霞;马麟;刘敏;王毅;田辉;王金华;袁冬梅 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | G01N1/32 | 分类号: | G01N1/32;G01N1/34;G01N23/203;G01N23/22 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种用于分析立方织构演变过程的截面样品制备方法,属于高温超导涂层导体的基带领域。将总形变量>99%、平均厚度为80~120um的冷轧合金基带剪切制备ND-RD面的样品或/和TD-RD面的样品6-10个,并叠放在一起并用夹具固定,留在夹具外边的一面高度应保持一致且整齐,面依次经过200#、400#、600#、800#、1500#的水磨砂纸抛磨后,再用金刚砂抛磨膏进行机械抛光,在进行下一道型号砂纸抛磨之前,必须进行5min~10min的超声清洗;取出,分别用丙酮、乙醇、水清洗。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 分析 立方 演变 过程 截面 样品 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于分析立方织构演变过程的截面样品制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将总形变量>99%、平均厚度为80~120um的冷轧合金基带根据测试需要分别剪切制备ND‑RD面的样品或/和TD‑RD面的样品,并做好标记;2)将剪切好的样品按照长度方向整齐的叠放在一起,其数量为6~10个;3)把步骤2)叠放整齐的样品用夹具固定在一起,固定时应注意基带不能倾斜,其留在夹具外边的一面高度应保持一致且整齐;4)将固定在夹具上的样品进行机械抛光,对样品留在夹具外边、高度保持一致且整齐的一面依次经过200#、400#、600#、800#、1500#的水磨砂纸抛磨后,再用金刚砂抛磨膏进行机械抛光,该步骤的关键在于在进行下一道型号砂纸抛磨之前,必须进行5min~10min的超声清洗,以去除基带层之间的砂砾和磨屑,防止其对基带截面造成一定的磨损;5)把抛光好的基带取出夹具,分别清洗:把抛光好的基带放入到丙酮溶液中进行去污清洗,然后放入到无水乙醇溶液中进行二次清洗,最后在蒸馏水中进行超声去离子清洗,烘干保存。
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