[发明专利]三端复合介质栅光敏探测器及其探测方法有效
申请号: | 201110416672.7 | 申请日: | 2011-12-14 |
公开(公告)号: | CN103165725A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 闫锋;夏好广;胡悦;卜晓峰;吴福伟;马浩文 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | H01L31/113 | 分类号: | H01L31/113;H01L31/0224;G01J1/42 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 陈建和 |
地址: | 210093 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 三端复合介质栅光敏探测器,包括P型半导体衬底(1)、在所述衬底正上方依次设有底层绝缘介质(6),光电子存储层(5),顶层绝缘介质(4),控制栅(3);P型半导体衬底中靠近叠层介质的任一侧通过离子注入掺杂形成高浓度N+型漏极(2);所述光电子存储层(5)是多晶硅、Si3N4或其它电子导体或半导体;控制栅极(3)是多晶硅、金属或其他透明导电电极,控制栅极面或基底层至少有一处为对探测器探测波长透明或半透明的窗口;该探测器利用pn结反偏来产生和收集光信号,通过测量pn结的栅极诱导漏极电流(GIDL)来读取信号大小。 | ||
搜索关键词: | 复合 介质 光敏 探测器 及其 探测 方法 | ||
【主权项】:
三端复合介质栅光敏探测器,其特征是三段复合介质栅探测器结构包括P型半导体衬底(1)、在所述衬底正上方依次设有底层绝缘介质(6),光电子存储层(5),顶层绝缘介质(4),控制栅(3);P型半导体衬底中靠近叠层介质的任一侧通过离子注入掺杂形成高浓度N+型漏极(2);所述光电子存储层(5)是多晶硅、Si3N4或其它电子导体或半导体;控制栅极(3)是多晶硅、金属或其他透明导电电极,控制栅极面或基底层至少有一处为对探测器探测波长透明或半透明的窗口;顶层绝缘介质(4)一般为宽带半导体,以保证电子从衬底穿越势垒而进入存储层后不会进入栅极(3);顶层绝缘介质的材料采用氧化硅/氮化硅/氧化硅、氧化硅/氧化铝/氧化硅、氧化硅、氧化铝或其它高介电常数介质材;底层介质材料可以采用氧化硅或其它高介电常数介质。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的