[发明专利]一种校正质谱仪器和/或分子质量的方法有效
| 申请号： | 201110392477.5 | 申请日： | 2011-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN102507722A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 陈义;李晋成;马力坡 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | G01N27/64 | 分类号： | G01N27/64;G01N1/28 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种校正质谱仪器和/或分子质量的方法。该方法包括如下步骤：在基底上蒸镀金膜，在所述质谱仪器中用激光轰击所述金膜；或者在所述金膜上涂覆基质、待测样品或基质与待测样品的混合物后，在所述质谱仪器中用激光轰击所述涂覆待测样品的金膜、涂覆所述基质的金膜或涂覆所述基质与待测样品的混合物的金膜，将得到的离子经所述质谱仪器分析得到质谱谱图，根据金簇的理论质量即可对质谱仪器和/或待测样品的分子质量进行校正。本发明提供的方法可以分别进行正和负电荷校正；由于利用了没有同位素的金簇，可以记录到一系列质荷比相差197的离子峰，再利用金的准确的理论质量，可以准确标定质谱仪器信号和样品的分子质量，其偏差可以降到5ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 校正 质谱仪 分子 质量 方法 | ||
【主权项】：
一种校正质谱仪器和/或分子质量的方法，包括如下步骤：在基底上蒸镀金膜，在所述质谱仪器中用激光轰击所述金膜；或者在所述金膜上涂覆基质、待测样品或基质与待测样品的混合物后，在所述质谱仪器中用激光轰击所述涂覆待测样品的金膜、涂覆所述基质的金膜或涂覆所述基质与待测样品的混合物的金膜，将得到的离子经所述质谱仪器分析得到质谱谱图，根据金簇的理论质量即可对质谱仪器和/或待测样品的分子质量进行校正。
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