[发明专利]检验基板的方法有效
| 申请号： | 201110376473.8 | 申请日： | 2011-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN102538680A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 金熙泰;金珉永 | 申请（专利权）人： | 株式会社高永科技;庆北大学校产学协力团 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G01B11/25 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 顾红霞;何胜勇 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种检验基板的方法。检验基板的方法包括：通过利用多个投射部依次将图案光束投射到形成有目标物的基板上，获得与基板有关的每个投射部的相位数据；利用所述每个投射部的相位数据，获得与所述基板有关的每个投射部的高度数据；利用所述每个投射部的高度数据补偿所述高度数据的倾斜；修正倾斜补偿后的所述每个投射部的高度数据；以及利用修正后的高度数据来获得整合高度数据。 | ||
| 搜索关键词： | 检验 方法 | ||
【主权项】：
一种检验基板的方法，包括：通过利用多个投射部依次将图案光束投射到形成有目标物的基板上，获得与所述基板有关的每个投射部的相位数据；利用所述每个投射部的相位数据，获得与所述基板有关的每个投射部的高度数据；利用所述每个投射部的高度数据补偿所述高度数据的倾斜；修正倾斜补偿后的所述每个投射部的高度数据；以及利用修正后的高度数据来获得整合高度数据。
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