[发明专利]化合物四羟基硼酸钡和四羟基硼酸钡非线性光学晶体及制备方法和用途有效
| 申请号： | 201110365019.2 | 申请日： | 2011-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN103114334A | 公开（公告）日： | 2013-05-22 |
| 发明（设计）人： | 潘世烈;王莉;杨云 | 申请（专利权）人： | 中国科学院新疆理化技术研究所 |
| 主分类号： | C30B29/22 | 分类号： | C30B29/22;C30B7/10;C01B35/12;G02F1/355 |
| 代理公司： | 乌鲁木齐中科新兴专利事务所 65106 | 代理人： | 张莉 |
| 地址： | 830011 新疆维吾尔*** | 国省代码： | 新疆;65 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化合物四羟基硼酸钡和四羟基硼酸钡非线性光学晶体及制备方法和用途，该化合物的分子式为：Ba2[B6O9(OH)4]，分子量为551.57；该晶体分子式为：Ba2[B6O9(OH)4]，属于单斜晶系，空间群为P21，分子量为551.57，采用水热法，通过程序降温或自然降温的方法即可得到四羟基硼酸钡非线性光学晶体。该晶体非线性光学效应为KDP晶体的3倍，透光波段190nm至2500nm。该晶体生长过程具有操作简单，成本低，所用的试剂为无机原料，毒性低，生长周期短，物化性质稳定等优点。本发明的四羟基硼酸钡非线性光学晶体在倍频转换、光参量振荡器等非线性光学器件中得到广泛应用。 | ||
| 搜索关键词： | 化合物 羟基 硼酸 非线性 光学 晶体 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
一种化合物四羟基硼酸钡，其特征在于该化合物的分子式为Ba2[B6O9(OH)4]，分子量为551.57，采用水热法制备，具体操作按下列步骤进行：a、将Ba(NO3)2、BaCl2、BaSO4、Ba(ClO4)2、BaCO3或Ba(CH3COO)2·H2O加入到体积为25‑100mL的高压反应釜的聚四氟乙烯内衬中，加入H3BO3或B2O3，再加入去离子水5‑50mL，使其充分混合均匀；b、将步骤a中的溶液，加入LiOH、KOH或NaOH调节pH值范围为8‑12；c、将步骤b中混合溶液所在的聚四氟乙烯内衬盖子旋紧，装入高压反应釜中，将反应釜活塞旋紧；d、将步骤c中的高压反应釜放置在恒温箱内，以温度20‑60℃/h的升温速率升至120‑200℃，恒温1‑15天，再以温度4‑50℃/h的降温速率或自然冷却至室温；e、打开高压反应釜，将含有晶体的溶液过滤，即可得到透明的化合物四羟基硼酸钡的单晶。
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