[发明专利]光学有效的表面起伏微观结构及其制造方法有效
申请号: | 201110362663.4 | 申请日: | 2007-05-07 |
公开(公告)号: | CN102495525A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
发明(设计)人: | 马丁·斯托德 | 申请(专利权)人: | 罗利克有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68;G03F1/80;G03F7/00;B42D15/00;G02B5/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李镇江 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及包括带有特定光学有效表面起伏微观结构的表面区域的元件及制造方法。表面起伏微观结构具有底部区域和顶部区域的表面调制,在表面区域的第一横向上,每20微米内具有至少一个从顶部区域到底部区域或从底部区域到顶部区域的过渡区,在掩模的垂直于第一方向的第二横向上,每200微米内具有平均至少一个从第一区到第二区或从第二区到第一区的过渡区。在微观结构中:在第一方向上,过渡区的横向布置是非周期性的;以及顶部区域基本位于相同的顶部起伏平稳段中,底部区域基本位于相同的底部起伏平稳段中。通过散射效应,表面起伏微观结构适于显示具有正负图像翻转的图像,这样有利地具有独特和饱和的颜色外观,同时不会显示任何彩虹色。 | ||
搜索关键词: | 光学 有效 表面 起伏 微观 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种具有透明度不同的第一区和第二区的微观结构的掩模的制造方法,该方法包括以下步骤:将具有拓扑结构的波纹状表面结构的膜(43)淀积在掩模材料层(42)上;减小所述膜(43)的厚度直到波纹状表面的下部区中的膜材料被清除并且露出下层掩模材料的一部分(44);并且移除所述掩模的露出部分(44)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗利克有限公司,未经罗利克有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110362663.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备