[发明专利]光学有效的表面起伏微观结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110362663.4 申请日: 2007-05-07
公开(公告)号: CN102495525A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 马丁·斯托德 申请(专利权)人: 罗利克有限公司
主分类号: G03F1/68 分类号: G03F1/68;G03F1/80;G03F7/00;B42D15/00;G02B5/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李镇江
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及包括带有特定光学有效表面起伏微观结构的表面区域的元件及制造方法。表面起伏微观结构具有底部区域和顶部区域的表面调制,在表面区域的第一横向上,每20微米内具有至少一个从顶部区域到底部区域或从底部区域到顶部区域的过渡区,在掩模的垂直于第一方向的第二横向上,每200微米内具有平均至少一个从第一区到第二区或从第二区到第一区的过渡区。在微观结构中:在第一方向上,过渡区的横向布置是非周期性的;以及顶部区域基本位于相同的顶部起伏平稳段中,底部区域基本位于相同的底部起伏平稳段中。通过散射效应,表面起伏微观结构适于显示具有正负图像翻转的图像,这样有利地具有独特和饱和的颜色外观,同时不会显示任何彩虹色。
搜索关键词: 光学 有效 表面 起伏 微观 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种具有透明度不同的第一区和第二区的微观结构的掩模的制造方法,该方法包括以下步骤:将具有拓扑结构的波纹状表面结构的膜(43)淀积在掩模材料层(42)上;减小所述膜(43)的厚度直到波纹状表面的下部区中的膜材料被清除并且露出下层掩模材料的一部分(44);并且移除所述掩模的露出部分(44)。
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