[发明专利]光学有效的表面起伏微观结构及其制造方法

权利要求书

1.一种具有透明度不同的第一区和第二区的微观结构的掩模的制造方法，该方法包括以下步骤：

将具有拓扑结构的波纹状表面结构的膜(43)淀积在掩模材料层(42)上；

减小所述膜(43)的厚度直到波纹状表面的下部区中的膜材料被清除并且露出下层掩模材料的一部分(44)；并且

移除所述掩模的露出部分(44)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，通过等离子蚀刻减小所述膜(43)的厚度。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，通过湿刻露出所述掩模材料的所述部分(44)。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述掩模材料是金属。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述掩模材料是铬或铝。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述掩模材料层(42)的厚度在10纳米到50纳米的范围内。

7.根据权利要求4所述的方法，其中，所述掩模材料层(42)涂覆在玻璃板或塑料板上。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，通过以下步骤制造所述拓扑结构的波纹状表面结构：制造至少两种材料的混合物，其中至少一种材料可交联，而至少另一种材料不可交联；将所述混合物施加到所述掩模材料层；使所述可交联材料的至少大部分交联；并且移除所述未交联材料的至少大部分。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述可交联材料在交联期间保持在定向状态下。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，利用共聚物的自组织或去湿来制造所述拓扑结构的波纹状表面结构。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，利用电子束写入器来制造所述拓扑结构的波纹状表面结构。

12.根据权利要求1所述的方法，其中，所述拓扑结构的波纹状表面结构是各向异性的。

13.一种具有带有光学有效的表面起伏微观结构的至少一个表面区域的元件的制造方法，其中，根据权利要求1至12所述的任何方法制备的掩模用于微观结构化树脂或光刻胶(49，55，60，66)的表面，以生成顶部区域(13)和底部区域(14)，其中所述顶部区域基本位于顶部起伏平稳段(15，51)中，而所述底部区域基本位于底部起伏平稳段(16，52)中。

14.根据权利要求13所述的方法，包括以下步骤：

提供一层光刻胶(49，55，60，66)；

以紫外光通过所述掩模照射所述一层光刻胶；以及

显影所述光刻胶(49，55)。

15.根据权利要求13所述的方法，包括以下步骤：

提供聚合物基板或涂有可蚀刻材料的基板；

在所述基板的顶部上生成掩模(61)，其中该掩模由金属制成；以及

通过所述金属掩模的孔，干刻所述聚合物基板或所述可蚀刻材料。

16.一种制备金属垫片的方法，包括以下步骤：

在根据权利要求13所述的方法制成的元件的顶部沉积开始的金属薄层；以及

电沉积镍。

17.根据权利要求16所述的方法制成的金属垫片在通过热压印至适当的薄膜聚合物材料中或通过UV铸造至适当的可UV固化的材料中而制造复制品中的用途。