[发明专利]被动调Q微片激光器

摘要

本发明公开了一种被动调Q微片激光器，属于激光技术领域。主要包括激光增益介质、石墨烯或碳纳米管可饱和吸收体、光学元件以及LD泵浦装置。将厚度纳米量级的石墨烯、碳纳米管可饱和吸收体紧密夹贴于激光器增益介质与光学元件之间，利用器件镀膜构成平平腔或平凹腔，使用胶合、光胶或深化光胶的方法将器件全固化为简单紧凑的三明治结构。利用石墨烯、碳纳米管材料可饱和吸收波长范围宽、导热性好的特点可实现微片激光器不同波长的宽带脉冲调制和良好的散热特性。本发明具有光学体积小、全固化易维护、波长调制范围宽的优点，可降低脉冲微片激光器的工艺难度和生产成本，有着广泛应用前景。

主权项

一种被动调Q的微片激光器，包括激光增益介质、石墨烯或碳纳米管可饱和吸收体、光学元件或光学材料以及LD泵浦装置；其特征在于：在增益介质泵浦端面镀对泵浦光增透光学膜、或者对激光全反射或部分反射光学膜，或者同时镀上述增透光学膜和反射光学膜；光学元件镀对激光全反射或部分反射光学膜，利用增益介质和光学元件的镀膜作前后腔镜构成平平腔或平凹腔，将厚度0.5纳米至5纳米的石墨烯、碳纳米管可饱和吸收体紧密夹贴于激光器增益介质与光学元件之间构成三明治结构。