[发明专利]一种用于PECVD多点进气多区可调装置

摘要

本发明属于涉及微电子技术领域，特别涉及一种用于PECVD带有可以提高大面积镀膜均匀性的多点进气多区可调装置。包括排气区体、进水管、回水管、硅烷进气口及氨气进气口，其中进水管、回水管、硅烷进气口及氨气进气口均布置在排气区体上。具有该多点进气多区可调装置的PECVD能够一次处理多个电池片，该装置可以提高SiN膜层厚度的均匀性，从而具有较高的产能，提高了PECVD设备的生产效率。

主权项

一种用于PECVD多点进气多区可调装置，其特征在于：包括排气区体、进水管(4)、回水管(8)、硅烷进气口(5)及氨气进气口(6)，其中进水管(4)、回水管(8)、硅烷进气口(5)及氨气进气口(6)均布置在排气区体上；所述排气区体包括第一排气区(1)、第二排气区(2)及第三排气区(3)，各工艺区域分别安装有进气装置和排气装置，各工艺区域的进气装置分别由各自的气源进气，在气源与各进气装置之间安装有至少一个质量流量计。