[发明专利]一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置无效
申请号: | 201110358044.8 | 申请日: | 2011-11-11 |
公开(公告)号: | CN103103499A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 张振厚;赵崇凌;李士军;张健;张冬;洪克超;徐宝利;钟福强;陆涛;许新;王刚;刘兴;郭玉飞;王学敏;李松 | 申请(专利权)人: | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及进气装置,具体地说是一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置,安装在真空腔室上,包括第一、二回填分气板、回填分气管、进气法兰、短管对焊接管及密封紧固件,进气法兰安装在真空腔室上,短管对焊接管位于真空腔室外,回填分气管、第一、二回填分气板均位于真空腔室内,短管对焊接管的一端与回填分气管的一端通过进气法兰相连,短管对焊接管的另一端通过密封紧固件接有进气管路,回填分气管的另一端安装有第二回填分气板,其上设有第一回填分气板,第一、二回填分气板之间的空间为进气缓冲区。本发明可对回填气体起到缓冲作用,实现真空腔室内均匀回填气体,从而避免由于直接进气过快造成电池从载板滑落等状况。 | ||
搜索关键词: | 一种 大型 板式 pecvd 设备 空腔 迷宫 装置 | ||
【主权项】:
一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置,安装在真空腔室上,其特征在于:包括第一回填分气板(1)、第二回填分气板(2)、回填分气管(4)、进气法兰(5)、短管对焊接管(6)及密封紧固件(7),其中进气法兰(5)安装在真空腔室上,所述短管对焊接管(6)位于真空腔室外,回填分气管(4)、第一回填分气板(1)及第二回填分气板(2)均位于真空腔室内,短管对焊接管(6)的一端与回填分气管(4)的一端通过进气法兰(5)相连,短管对焊接管(6)的另一端通过密封紧固件(7)接有进气管路,回填分气管(4)的另一端安装有第二回填分气板(2),在第二回填分气板(2)上设有第一回填分气板(1),第一回填分气板(1)与第二回填分气板(2)之间的空间为进气缓冲区。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的