[发明专利]用铜基板一步制备纳米碳纤维薄膜的方法无效
| 申请号： | 201110348866.8 | 申请日： | 2011-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN102505111A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 谢广文;宋安康;杜芳林;卢小萍;吕少勇;黎洪亮;王桂雪 | 申请（专利权）人： | 青岛科技大学 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/44 |
| 代理公司： | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人： | 巩同海 |
| 地址： | 266042 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米碳纤维制备方法，尤其涉及一种利用化学气相沉积法制备纳米碳纤维薄膜的方法。用铜基板一步制备纳米碳纤维薄膜的方法，包括如下步骤：(1)以铜基板作为基体和催化剂，将铜基板进行打磨处理；(2)用蒸馏水对其表面进行清洗；(3)将清洗过的铜基板放入反应装置中，加入碳源气体，制备出纳米碳纤维薄膜。本发明采用化学气相沉积法，一步制备出纳米碳纤维薄膜。采用铜板作为催化剂及基体，无需另外负载催化剂，简化了生产工艺，提高了碳纤维的生长效率。反应温度较低且容易控制、无需昂贵的设备操作简单、可连续生产、得到的碳纤维纯度高，易于实现工业生产。 | ||
| 搜索关键词： | 用铜基板 一步 制备 纳米 碳纤维 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种用铜基板一步制备纳米碳纤维薄膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)以铜基板作为基体和催化剂，将铜基板进行打磨处理；(2)用蒸馏水对其表面进行清洗；(3)将清洗过的铜基板放入反应装置中，加入碳源气体，制备出纳米碳纤维薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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