[发明专利]一种基于几何空间的语义约束纹理合成方法有效

专利信息
申请号: 201110328195.9 申请日: 2011-10-25
公开(公告)号: CN102385757A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 王莉莉;金其江;马志强;何兵 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G06T11/00 分类号: G06T11/00
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 李新华;顾炜
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提出了一种基于几何空间的语义约束纹理合成方法,使得合成结果具有与样图不同的结构特征。本方法关键在于对纹理拓扑结构的分析与处理,用二维纹理网格来描述这种纹理独有的特征。首先由样本纹理的图元掩码构造样本纹理网格。再根据给定的拓扑结构约束条件,即用户给定的小块网格,合成目标纹理网格。然后在纹理网格指导和控制下,采用基于特征矢量的逐像素合成算法合成目标纹理的每一个像素,达到改变纹理拓扑结构的目的。本方法实现了基于一张样例纹理合成多张结构特征各不相同的纹理。
搜索关键词: 一种 基于 几何 空间 语义 约束 纹理 合成 方法
【主权项】:
一种基于几何空间的语义约束纹理合成方法,包括以下两个步骤:(1)利用图像处理技术从样本纹理中提取或由用户给定样本纹理网格,然后基于网格块拼接技术合成目标纹理网格;(2)根据样本纹理网格和目标纹理网格生成样本纹理和目标纹理的特征矢量,并采用基于特征矢量的邻域匹配算法合成目标纹理。
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