[发明专利]版图二划分方法有效
| 申请号： | 201110328029.9 | 申请日： | 2011-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN102521425A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 蔡懿慈;姚海龙;邓超 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京中伟智信专利商标代理事务所 11325 | 代理人： | 张岱 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种版图二划分方法，为解决现有光刻工艺中因版图密度过大而降低产品质量的缺陷而设计。本发明版图二划分方法将版图中图形间距小于最小光刻距离的图形划分成为两个子版图，通过两次光刻刻蚀得到版图图形；当分成为两个子版图后所述子版图中图形间距仍小于最小光刻距离时，将版图中图形分割成至少两个子图形，以所述子图形为单位将间距小于最小光刻距离的子图形划分为两个子版图，通过两次光刻刻蚀在基片上得到版图图形；当无法用分割的方法得到子版图的版图区域进行标注。本发明版图二划分方法应用于大规模集成电路的版图设计和产品制造领域，使用方便，准确性高。 | ||
| 搜索关键词： | 版图 划分 方法 | ||
【主权项】：
一种版图二划分方法，其特征在于：将版图中图形间距小于最小光刻距离的图形划分成为两个子版图，通过两次光刻刻蚀得到版图图形；当分成为两个子版图后所述子版图中图形间距仍小于最小光刻距离时，将版图中图形分割成至少两个子图形，以所述子图形为单位将间距小于最小光刻距离的子图形划分为两个子版图，通过两次光刻刻蚀在基片上得到版图图形；将无法用分割的方法得到子版图的版图区域进行标注。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学，未经清华大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110328029.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基于加密芯片的数字版权保护方法
- 下一篇：内存管理方法和装置
