[发明专利]一种增透薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201110325546.0 | 申请日： | 2011-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103057194A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 黎宪宽;周维;罗迪恬;孙永亮 | 申请（专利权）人： | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;C03C17/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518118 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种增透膜，该增透膜依次包括第一二氧化硅层、第二线性二氧化硅层和第三二氧化硅层；所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径为50-150nm，所述第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径为10-70nm；所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径与第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径比为1-5∶1。本发明还提供了该增透薄膜的制备方法。本发明的增透膜在可见光范围内的单面增透达3%以上，耐摩擦和耐盐雾性能大幅度提高，且产品的稳定性和一致性优异。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种增透膜，其特征在于，该增透膜依次包括第一二氧化硅层、第二线性二氧化硅层和第三二氧化硅层；所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径为50‑150nm，所述第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径为10‑70nm；所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径与第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径比为1‑5：1。
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