[发明专利]在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法及依该方法制成玻璃基板无效
| 申请号： | 201110321275.1 | 申请日： | 2011-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN103058506A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 梁乃悦 | 申请（专利权）人： | 雅士晶业股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B27/03 | 分类号： | C03B27/03;C03C21/00 |
| 代理公司： | 上海宏威知识产权代理有限公司 31250 | 代理人： | 金利琴 |
| 地址： | 中国台湾忠*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种可在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法，包括在玻璃基板表面形成预定图案的屏蔽，该预定图案具有复数镂空区域及遮蔽区域，再对玻璃基板进行化学离子强化制程，于该玻璃基板的未受屏蔽遮蔽区域的表面形成压应力层，据此制成一表面具压应力层图案的玻璃基板；特别是，该玻璃基板的至少一表面设有压应力层图案，该图案可在该表面界定出多个具备不同压应力的局部区域，其包含若干高压应力区域与低压应力区域，该玻璃基板的高压应力区域可增加玻璃抗性，促进抵挡碎裂和刮痕的效能，而在低压应力区域则可保持加工性，使玻璃基板便于进行切割、分裂或研磨等加工。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 表面 形成 应力 图案 方法 制成 | ||
【主权项】：
一种在玻璃基板表面形成压应力层图案的方法，其特征在于：包括以下步骤：a.提供一玻璃基板；b.在玻璃基板表面形成预定图案的屏蔽，该预定图案具有多个镂空区域及遮蔽区域；c.对玻璃基板进行化学离子强化制程，将前述设有屏蔽的玻璃基板浸渍在充满熔态强化液的盐浴池中来进行离子交换处理，使玻璃基板表面层的离子被具有同价或氧化状态的大型离子取代或交换，在该玻璃基板的未受屏蔽遮蔽区域的表面形成压应力层；以及d.去除玻璃基板表面的屏蔽，以获得一表面具有所欲的压应力层图案的玻璃基板。
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