[发明专利]集成电路产业含氟废水处理方法无效
| 申请号： | 201110305095.4 | 申请日： | 2011-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN103030234A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 李建雄;方程冉;陶松垒;乔静兵;郑彬理;石伟峰 | 申请（专利权）人： | 浙江科技学院 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04;C02F1/52;C02F1/56;C02F1/66;C02F101/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310023 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种集成电路产业含氟废水处理方法，采用三级反应一级沉淀的工艺，包括含氟废水收集池、一级反应槽、二级反应槽、三级反应槽、沉淀槽、排放水槽、污泥槽和污泥脱水机。含氟废水通过含氟废水收集池的进水口进入含氟废水收集池，含氟废水收集池管道连接至一级反应槽，在一级反应槽中加入氢氧化钙和氯化钙，一级反应槽管道连接至二级反应槽，在二级反应槽中加入PAC，二级反应槽管道连接至三级反应槽，在三级反应槽中加入PAM，三级反应槽管道连接至沉淀槽，沉淀槽一根管道连接至排放水槽，一根管道连接至污泥槽，污泥槽管道连接至污泥脱水机。本发明具有结构简单、方便实用的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 产业 废水处理 方法 | ||
【主权项】：
一种集成电路产业含氟废水处理方法，采用三级反应一级沉淀的工艺，包括含氟废水收集池、一级反应槽、二级反应槽、三级反应槽、沉淀槽、排放水槽、污泥槽和污泥脱水机，其特征是：含氟废水通过含氟废水收集池的进水口进入含氟废水收集池，含氟废水收集池管道连接至一级反应槽，在一级反应槽中加入氢氧化钙和氯化钙，一级反应槽管道连接至二级反应槽，在二级反应槽中加入PAC，二级反应槽管道连接至三级反应槽，在三级反应槽中加入PAM，三级反应槽管道连接至沉淀槽，沉淀槽一根管道连接至排放水槽，一根管道连接至污泥槽，污泥槽管道连接至污泥脱水机。
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