[发明专利]波片位相延迟量测量方法及光胶盘无效
| 申请号： | 201110297222.0 | 申请日： | 2011-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN102507143A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 张书练;陈文学;李浩昊;赵子英 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京中伟智信专利商标代理事务所 11325 | 代理人： | 张岱 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种波片位相延迟量在线测量方法，为解决现有测量方法精度差的问题而设计。本发明波片位相延迟量在线测量方法为令测量光束穿过波片和光胶盘上与波片位置对应的通孔得到测量结果，消除光胶应力双折射和/或光胶盘加工残余应力双折射对测量结果的影响。该方法包括下述步骤：在光胶盘上加工通孔；在通孔内串设套管；将波片覆盖在通孔放置上，波片的边缘光胶于光胶盘上；令测量光束穿过波片和通孔得到测量结果。本发明光胶盘包括：光胶盘本体、通孔、支撑柱和套管。本发明波片位相延迟量在线测量方法测量效果更好，精度更高。本发明光胶盘适合于实现上述测量方法，令波片位相延迟量在线测量精度更好。 | ||
| 搜索关键词： | 位相 延迟 测量方法 光胶盘 | ||
【主权项】：
一种波片位相延迟量在线测量方法，其特征在于，所述方法为令测量光束穿过波片和光胶盘上与波片位置对应的通孔得到测量结果，消除光胶应力双折射和/或光胶盘加工残余应力双折射对测量结果的影响。
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