[发明专利]防污染装置有效
| 申请号： | 201110287191.0 | 申请日： | 2011-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN102357477A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 刘效岩 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/00 | 分类号： | B08B3/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100016 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种防污染装置，涉及半导体晶片工艺技术领域，包括：吹扫单元、供气管道和气体供应单元，在所述吹扫单元内设有通气管，所述吹扫单元的上端设有若干第一气孔，所述若干第一气孔分别与所述通气管连通，所述供气管道的一端与所述通气管连通，所述供气管道的另一端与所述气体供应单元连通。本发明通过设置吹扫单元，实现了防止清洗液及清洗产物沿晶片边缘进入晶片背面，从而防止晶片背面和边缘形成缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 污染 装置 | ||
【主权项】：
一种防污染装置，其特征在于，包括：吹扫单元、供气管道和气体供应单元，在所述吹扫单元内设有通气管，所述吹扫单元的上端设有若干第一气孔，所述若干第一气孔分别与所述通气管连通，所述供气管道的一端与所述通气管连通，所述供气管道的另一端与所述气体供应单元连通。
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