[发明专利]一种新的关键尺寸监控结构的外形设计无效
| 申请号： | 201110272693.6 | 申请日： | 2011-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102435154A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 何伟明;郑海昌 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01B15/00 | 分类号： | G01B15/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及微电子领域关于关键尺寸测量的监控结构的外形设计，该监控结构同时具有水平图形和垂直的图形，具有密集图形、半密集图形、孤立的图形，有特殊的标记方便CDSEM自动量测程式的建立，所述特殊的标记用来定位和自动对焦，从而可以避免用量测图形直接做定位和自动对焦，提高了CDSEM量测的成功率和精度，该种标记可以设计在掩模板上，设置在没有电路的位置上，即使CDSEM电子束会破坏光刻胶，那么由于做定位和自动对焦的位置下没有电路，也不会影响CD的测量和器件的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 关键 尺寸 监控 结构 外形 设计 | ||
【主权项】：
一种新的关键尺寸监控结构的外形设计，其特征在于，其同时具有水平的测量图形、垂直的测量图形、密集的测量图形、半密集的测量图形和孤立的测量图形。
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