[发明专利]一种碳化钨复合粉末的制备方法无效
申请号: | 201110259042.3 | 申请日: | 2011-09-05 |
公开(公告)号: | CN102978426A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 范洪涛;王莉;翟勇 | 申请(专利权)人: | 国家纳米技术与工程研究院 |
主分类号: | C22C1/04 | 分类号: | C22C1/04;C22C29/08;B22F1/02;C23C14/14;C23C14/35 |
代理公司: | 天津天麓律师事务所 12212 | 代理人: | 卢枫 |
地址: | 300457 天津市塘*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种碳化钨复合粉末的制备方法,采用微颗粒磁控溅射仪进行复合粉末的制备,其特征在于:以碳化钨粉末为基体,以所要包覆的金属为靶材,通过直流、射频或者脉冲溅射,将靶材上的金属溅射下来沉积到碳化钨粉末的表面上,成为均匀致密的金属薄膜,将碳化钨颗粒严密包覆在其中,实现金属包覆碳化钨粉体的目的。本发明优越性:工艺简单,易于控制,稳定性高,对环境没有污染;成膜致密连续,附着力强;通过改变靶材的成分可实现不同成分的薄膜包覆;可有效解决碳化钨颗粒与金属之间界面的浸润问题以及抑制碳化钨粉体加热过程中脱碳的发生。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化 复合 粉末 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种碳化钨复合粉末的制备方法,其特征在于具体步骤如下:(1)使用微颗粒磁控溅射仪进行粉体表面包覆,采用直流、射频或者脉冲溅射模式;(2)取纯WC粉末作为包覆的基体材料放置于溅射仪的样品盒中,以所要包覆的金属作为溅射靶材;(3)当真空室内的真空度达到1.0×10‑3~4.0×10‑3Pa时,向真空室内充入高纯氩气,设定真空室内的工作压力为0.3~5Pa,基底温度为20~300℃;(4)开启样品盒的摆动装置和超声波振动装置,超声波振动频率为10~30kHz,振动功率为5~40W,样品盒的摆动频率为3~20次/分钟;(5)开启溅射电源,调整溅射电流0.2~3A,溅射功率为50~500W,控制溅射时间30~300分钟;(6)溅射完毕后,按步骤关闭微颗粒磁控溅射仪,即得到附着良好金属薄膜的WC粉末。
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