[发明专利]制膜方法

摘要

本发明提供用简单的方法即可形成连续且优质的膜的制膜方法，其通过一边在制膜对象物上喷涂从喷嘴喷射出来的气溶胶，一边连续地改变其喷涂位置，从而生成连续地覆盖上表面和外侧面和弯曲面的膜。该制膜方法具备第一制膜工序和第二制膜工序，在所述第一制膜工序中，在上表面(W01)和与上表面(W01)相连的弯曲面(W03)上连续地喷涂气溶胶，连续地形成覆盖上表面(W01)的膜和覆盖弯曲面(W03)的至少一部分的膜，在所述第二制膜工序中，连续地形成覆盖外侧面(W02)的膜和进一步覆盖在第一制膜工序中形成于弯曲面(W03)的膜的膜。

主权项

一种制膜方法，其通过在具备第一平面和与该第一平面成90度以上不足180度的角度的第二平面、连接所述第一平面和所述第二平面的弯曲面的对象物上，喷涂从喷嘴喷射出来的超微粒材料的同时，连续地改变其喷涂位置，从而生成连续地覆盖所述第一平面和所述第二平面和所述弯曲面的膜，其特征在于，具备：第一配置工序，即以如下方式来配置所述喷嘴：沿着所述超微粒材料的喷射方向的喷射直线与所述第一平面所成的角度在30度到60度的范围内，并且，当所述喷嘴位于所述喷射直线到达所述第一平面与所述弯曲面的边界即第一边界线的位置时，在所述第一平面上投影所述喷射直线得到的第一假想线与所述第一边界线所成的角度在0度到60度的范围内；第一制膜工序，即一边从所述喷嘴喷射所述超微粒材料，一边在保持所述喷嘴与所述第一平面的距离和角度的同时，在所述第一平面和与所述第一平面相连的所述弯曲面上连续地喷涂所述超微粒材料，连续地形成覆盖所述第一平面的膜和覆盖所述弯曲面的至少一部分的膜；第二配置工序，即以如下方式来配置所述喷嘴：沿着所述超微粒材料的喷射方向的喷射直线与所述第二平面所成的角度在30度到60度的范围内，并且，当所述喷嘴位于所述喷射直线到达所述第二平面与所述弯曲面的边界即第二边界线的位置时，在所述第二平面上投影所述喷射直线得到的第二假想线与所述第二边界线所成的角度在0度到60度的范围内；以及第二制膜工序，即一边从所述喷嘴喷射所述超微粒材料，一边在保持所述喷嘴与所述第二平面的距离和角度的同时，在所述第二平面和与所述第二平面相连的所述弯曲面上连续地喷涂所述超微粒材料，连续地形成覆盖所述第二平面的膜和进一步覆盖在所述第一制膜工序中形成于所述弯曲面的膜的膜。