[发明专利]彩膜、彩膜基板及其制造方法、显示装置无效
| 申请号： | 201110247841.9 | 申请日： | 2011-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN102650756A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 王凯旋 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜、彩膜基板及彩膜基板的制造方法，涉及液晶显示器领域，能够减少彩膜基板的制作工序，降低成本。该彩膜包括：挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，所述挡光层为可导电的挡光层，所述像素层为可导电的像素层，所述可导电的挡光层和像素层相互连通。该彩膜基板包括：基板、所述基板上的挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，所述挡光层为可导电的挡光层，所述像素层为可导电的像素层，所述可导电的挡光层和像素层相互连通。该彩膜基板的制造方法包括：制作可导电的挡光层；在所述挡光层之间制作可导电的像素层。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜 彩膜基板 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种彩膜，包括：挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，其特征在于，所述挡光层为可导电的挡光层；所述像素层为可导电的像素层；所述可导电的挡光层和像素层相互连通。
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