[发明专利]一种MOCVD石墨盘清洁装置

摘要

本发明公开了一种MOCVD石墨盘清洁装置，其包括：气路控制器，真空反应室，加热单元，压力控制器，泵，尾气处理装置；带腐蚀性的气体与载气进入所述气路控制器中，该气路控制器将其按比率混合后通入所述的真空反应室内，所述的加热单元进行加热控温，且所述的压力控制器进行压力控制，该混合气体与石墨盘表面沉积物充分反应，反应残留物通过泵随载气一起排出真空反应室，进入尾气处理装置进行净化处理。本发明所公开的装置结构简单、制造和使用成本低廉、清洁石墨盘时效果好、处理时间短，广泛适用于外延生长后附着在石墨盘上的固体沉积物的清洁。

主权项

一种MOCVD石墨盘清洁装置，其特征在于，其包括：气路控制器，真空反应室，加热单元，压力控制器，泵，尾气处理装置；带腐蚀性的气体与载气进入所述气路控制器中，该气路控制器将其按比率混合后通入所述的真空反应室内，所述的加热单元进行加热控温，且所述的压力控制器进行压力控制，该混合气体与石墨盘表面沉积物充分反应，反应残留物通过泵随载气一起排出真空反应室，进入尾气处理装置进行净化处理。