[发明专利]带有同时变量的像差校正的光学器件有效
| 申请号： | 201080044115.0 | 申请日： | 2010-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN102549478A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | A·N·西蒙诺夫;M·C·罗姆巴赫 | 申请（专利权）人： | 爱克透镜国际公司 |
| 主分类号： | G02B27/64 | 分类号： | G02B27/64;G02B27/00;G02B3/02;G11B3/02;G11B7/00;F24J1/00 |
| 代理公司： | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人： | 尹振启 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一光学系统，包括至少两个光学元件，其中的至少一个相对于其他在垂直于该光学系统的光轴方向是可移动的，其中这些光学元件的组合适用于同时校正至少两个不同阶的可变像差，其校正程度取决于该些光学元件的相对位置。这个光学系统适用于校正像差，像差是可变的和取决于透镜相对于主体/成像平面的位置。进一步，该光学系统适用于校正像差变化以及该系统的散焦。这些像差可以包括意味着散焦和像散的第二阶像差，意味着慧星形和和三叶形的第三阶像差，例如球形像差的第四阶像差和进一步更高阶像差项。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 同时 变量 校正 光学 器件 | ||
【主权项】：
光学系统，包括至少两个光学元件，其中的至少一个相对于其他在垂直于该光学系统的光轴方向是可移动的，其特征在于，光学元件的组合适于同时校正至少两个不同阶的可变像差，其校正的程度取决于该些光学元件的相对位置。
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