[发明专利]借助傅里叶滤光和图像比较的掩模检查有效
申请号: | 201080016447.8 | 申请日: | 2010-03-18 |
公开(公告)号: | CN102395923A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 迈克尔·纳尔逊;哈里·休厄尔;埃里克·凯蒂 | 申请(专利权)人: | ASML控股股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 具有傅里叶滤光和图像比较的掩模检查系统可以包括第一检测器、动态傅里叶滤光片、控制器和第二检测器。第一检测器可以位于检查系统的傅里叶平面处且可以检测由掩模的区域所产生的图案化的光的第一部分。可以基于图案化的光的所检测的第一部分由控制器控制动态傅里叶滤光片。第二检测器可以检测由掩模的所述部分所产生的且透射穿过动态傅里叶滤光片的图案化的光的第二部分。另外,掩模检查系统可以包括数据分析装置,用于比较图案化的光的第二部分与另一图案化的光。因此,掩模检查系统能够更加精确地且以更高分辨率检测在掩模的区域上的任何可能的缺陷。 | ||
搜索关键词: | 借助 傅里叶 滤光 图像 比较 检查 | ||
【主权项】:
一种系统,包括:第一检测器,定位在傅里叶平面处且配置成检测由掩模的一部分产生的图案化的光的第一部分;动态傅里叶滤光片;控制器,配置成基于所述图案化的光的第一部分控制所述动态傅里叶滤光片;第二检测器,配置成在由所述掩模的所述部分产生的图案化的光的第二部分透射穿过所述动态傅里叶滤光片之后检测所述第二部分;和数据分析装置,配置成将所述图案化的光的第二部分与另一图案化的光进行比较。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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