[发明专利]一种树脂基底窄带负滤光膜膜系、滤光片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201010237823.8 申请日: 2010-07-27
公开(公告)号: CN101900848A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 刘凤玉 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;B32B27/06;C23C14/30;C23C14/10;C23C14/06
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 陈浩
地址: 471009 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种树脂基底窄带负滤光膜膜系,该膜系由52层膜层组成,与树脂基底相邻的膜层为第1层,在第1~50层膜层中,奇数层均为M2膜层,膜层的光学厚度均为70nm;偶数层均为SiO2膜层,膜层的光学厚度均为200nm;第51层为M2膜层,膜层的光学厚度为272nm;第52层为SiO2膜层,膜层的光学厚度为140nm。本发明针对树脂材料软、钢性差、易变形、膨胀系数大、与大多数材料结合特性差等特点,设计了专用于树脂基底的窄带负滤光膜膜系,并通过特定的镀制方法,镀制出了牢固度高、光学特性好的窄带负滤光光学零件。
搜索关键词: 一种 树脂 基底 窄带 滤光 膜膜系 及其 制备 方法
【主权项】:
一种树脂基底窄带负滤光膜膜系,其特征在于:该膜系由52层膜层组成,膜系的结构为: Sub|(0.35HL)n1.5H0.75L 其中,Sub为树脂基底,H为M2膜层,L为SiO2膜层,n为周期数,取值为25;与树脂基底相邻的膜层为第1层,在第1~50层膜层中,奇数层均为M2膜层,膜层的光学厚度均为70nm;偶数层均为SiO2膜层,膜层的光学厚度均为200nm;第51层为M2膜层,膜层的光学厚度为272nm;第52层为SiO2膜层,膜层的光学厚度为140nm。
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