[发明专利]缓冲件有效

专利信息
申请号: 201010231350.0 申请日: 2010-07-16
公开(公告)号: CN102030144A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 大隈博辉;积田敏和 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: B65D81/05 分类号: B65D81/05
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种缓冲件。当沿着第一面对方向将缓冲件安装到管状部件上时,该管状部件的内周面接触第二突出部的一部分,第一突出部的第一部分接触第一接触区域,第二突出部的第二部分接触第二接触区域,第三突出部的第三部分接触第三接触区域,第一接触区域与第二接触区域之间的距离小于第一接触区域与第三接触区域之间的距离,第二接触区域在突出的方向上距基部的长度大于第三接触区域在突出的方向距基部的长度。
搜索关键词: 缓冲
【主权项】:
一种缓冲件,该缓冲件包括:基部;第一突出部,该第一突出部从所述基部突出,并且具有从该第一突出部的侧壁突出的第一部分;第二突出部,该第二突出部从所述基部突出,并且具有从该第二突出部的侧壁突出的部分;以及第三突出部,该第三突出部从所述基部突出,并且具有从该第三突出部的侧壁突出的第二部分和第三部分;并且其中:所述第一突出部位于所述第二突出部与所述第三突出部之间;当沿着第一面对方向将所述缓冲件安装到管状部件上时,该管状部件的内周面接触所述第二突出部的所述部分,所述第一部分接触第一接触区域,所述第二部分接触第二接触区域,所述第三部分接触第三接触区域,当沿着与所述第一接触区域正交的方向观看时,所述第一接触区域位于所述第二接触区域与所述第三接触区域之间,并且所述第一接触区域与所述第二接触区域之间的距离小于所述第一接触区域与所述第三接触区域之间的距离,所述第二接触区域在突出的方向上距所述基部的长度大于所述第三接触区域在突出的方向上距所述基部的长度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社,未经富士施乐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010231350.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top