[发明专利]光源装置、具有该光源装置的光照射装置有效
| 申请号： | 201010180504.8 | 申请日： | 2010-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN101886758A | 公开（公告）日： | 2010-11-17 |
| 发明（设计）人： | 井元正博;芳本光晴;数藤康裕;福留正一;山中久志 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | F21S2/00 | 分类号： | F21S2/00;F21V7/00;H04N1/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟;张浩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光源装置、具有该光源装置的光照射装置，在本发明的半导体装置的一实施方式中，光源装置构成为，具有发光面的多个发光元件在基板表面上隔着间隔设置成一列，从所述发光面沿着所述基板的表面向前方放射照射光，在所述基板表面的所述发光面的前方侧，以比该发光面的宽度窄的宽度形成从该发光面的下端向前方延伸的光反射抑制区域。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 具有 照射 | ||
【主权项】：
一种光源装置，在基板表面隔着间隔设置有一列具有发光面的多个发光元件，从所述发光面沿着所述基板的表面向前方放射照射光，其特征在于，在所述基板的表面的所述发光面的前方侧，以比所述发光面的宽度窄的宽度形成从所述发光面的下端向前方延伸的光反射抑制区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社，未经夏普株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010180504.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
