[发明专利]以超低棱线铜箔为载体的极薄铜箔及其制造方法有效
申请号: | 201010169850.6 | 申请日: | 2010-04-29 |
公开(公告)号: | CN102233699A | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
发明(设计)人: | 邹明仁;林雅玫 | 申请(专利权)人: | 南亚塑胶工业股份有限公司 |
主分类号: | B32B15/01 | 分类号: | B32B15/01;C25D3/56;C25D3/38;H05K1/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周长兴 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是有关以超低棱线铜箔为载体的极薄铜箔,由载体箔、剥离层、以及极薄铜箔所形成。载体箔使用两面平滑的超低棱线的铜箔,该超低棱线铜箔对于所承载的极薄铜箔可带来无针孔、厚度均一性佳以及表面低粗度等优点。而剥离层影响载体箔与极薄铜箔间的结合强度甚巨,是由具剥离特性的四元合金的金属所构成。本发明以超低棱线铜箔为载体的极薄铜箔的载体结合强度低,不但对于环境忍受性相当优异,尚具有耐高温、耐湿气、耐酸、耐碱等特性,在高温的热压环境下载体箔与极薄铜箔仍旧拥有优异的剥离特性。 | ||
搜索关键词: | 棱线 铜箔 载体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种以超低棱线铜箔为载体的极薄铜箔,由载体箔、剥离层、及极薄铜箔经电镀组合而构成;其中:(1)载体层为超低棱线铜箔,其两面光亮平滑,厚度为12‑70μm;(2)剥离层是以含钼、镍、铬及钾的四元合金电镀液电镀于载体箔上形成,厚度为1~6μm;(3)极薄铜箔是在剥离层上施予Cu2P2O7.3H2O:10~60g/L,K4P2O7:100~400g/L,pH=6~10,浴温10~60℃,电流密度:1~5A/dm2,通电时间15秒的电镀做为剥离层保护膜,再以铜浓度50~100g/L,硫酸:90~125g/L,浴温40~70℃,电流密度:10~50A/dm2,通电时间:20秒电镀成为厚度1~6μm的铜箔。
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