[发明专利]真空红外线加热退火炉有效
| 申请号： | 201010139658.2 | 申请日： | 2010-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN102212658A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | 刘厚方;尹林;刘金声;韩秀峰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所;北京埃德万斯离子束技术研究所 |
| 主分类号： | C21D1/26 | 分类号： | C21D1/26;C22F1/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空红外线退火炉，包括样品架、红外线光源、绝热陶瓷环、样品托、测温装置以及真空腔；其中，样品架位于真空腔内，所述红外线光源位于所述样品架的底部，所述样品架的顶端有一开口，所述绝热陶瓷环安放在所述样品架顶端开口的四周；用于安放样品的样品托被安装在所述绝热陶瓷环上，使得所述样品托中的样品能够透过所述绝热陶瓷环以及所述样品架的顶端开口接收所述红外线光源散发出的热量；所述测温装置对所述样品在退火过程中的温度予以测量。本发明的真空红外线加热退火炉能够在磁场环境下使用，具有应用范围广的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 红外线 加热 退火炉 | ||
【主权项】：
一种真空红外线退火炉，其特征在于，包括样品架(7)、红外线光源(8)、绝热陶瓷环(5)、样品托(4)、测温装置以及真空腔(11)；其中，所述样品架(7)位于真空腔(11)内，所述红外线光源(8)位于所述样品架(7)的底部，所述样品架(7)的顶端有一开口，所述绝热陶瓷环(5)安放在所述样品架(7)顶端开口的四周；用于安放样品的样品托(4)被安装在所述绝热陶瓷环(5)上，使得所述样品托(4)中的样品能够透过所述绝热陶瓷环(5)以及所述样品架(7)的顶端开口接收所述红外线光源(8)散发出的热量；所述测温装置对所述样品在退火过程中的温度予以测量。
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