[发明专利]干涉滤光片的分隔层的图案化方法有效
申请号: | 201010139114.6 | 申请日: | 2010-03-18 |
公开(公告)号: | CN101907732A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 阿尔博特·阿革帝亚;特里克·拉登;卡罗尔·索拉文 | 申请(专利权)人: | JDS尤尼弗思公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B5/28 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 郑小粤 |
地址: | 美国加利福尼亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及一种干涉滤光片的分隔层的图案化方法,该方法用于制造具有介电分隔层以使得其不同区域具有不同厚度的色移光学装置。该方法包括:(a)在基板上涂敷反射层或吸收层中的一个;(b)在步骤(a)中所涂敷的层上提供分隔层,该分隔层包括分隔材料和该装载的分隔层内的可溶团;(c)通过溶解该可溶团以移去该分隔材料的一部分来调节该分隔层以改变该分隔层的厚度;以及(d)在所述分隔层上涂敷所述反射层或吸收层中的另一个。 | ||
搜索关键词: | 干涉滤光片 隔层 图案 方法 | ||
【主权项】:
一种制造光学装置的方法,该方法包括:(a)在基板上涂敷反射层或吸收层中的一个;(b)在步骤(a)中所涂敷的层上提供分隔层,所述分隔层包括分隔材料和所述分隔层内的可溶团;(c)通过溶解所述可溶团并移去一部分所述分隔材料以调节所述分隔层从而改变所述分隔层的厚度;以及(d)在所述分隔层上涂敷所述反射层或吸收层中的另一个。
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