[发明专利]氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用有效
| 申请号： | 201010106871.3 | 申请日： | 2010-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN101818047A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 张泽芳;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/3105;H01L21/762;B24B7/24 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 地址： | 200050 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于微电子加工中的化学机械抛光浆液领域，具体涉及氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用。本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒包含氧化硅和氧化铈，且所述复合磨料颗粒的内核为球形氧化硅内核，外壳为氧化铈包覆层。由本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒配制成的抛光液对超大规模集成电路玻璃、二氧化硅介质层和STI进行抛光，可以提高抛光去除率和抛光选择比，减少抛光缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 铈核壳 复合 磨料 颗粒 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
一种氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒，其特征在于，所述氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒包含氧化硅和氧化铈，且所述复合磨料颗粒的内核为球形氧化硅内核，外壳为氧化铈包覆层。
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