[发明专利]纳米孔的制备无效
申请号: | 200980114307.1 | 申请日: | 2009-04-22 |
公开(公告)号: | CN102015079A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 萨鲁纳斯·佩特罗尼斯;本特·卡斯莫文 | 申请(专利权)人: | 萨鲁纳斯·佩特罗尼斯;本特·卡斯莫文 |
主分类号: | B01D67/00 | 分类号: | B01D67/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁 |
地址: | 瑞典哥*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | 本发明涉及纳米孔径膜,这种纳米孔径膜的制备方法及其应用。在制备上述纳米孔径膜的方法中,采用胶体刻蚀的方法,在较短时间较大范围内制备纳米孔径。纳米孔径膜其粒径分布窄,且随机分布。此外,内径距离基本相同。 | ||
搜索关键词: | 纳米 制备 | ||
【主权项】:
一种制备含有纳米孔的膜的方法,所述方法包括以下步骤:a)提供一个包括第一面和与之相反的第二面的支撑,b)将胶体粒子沉积并吸附于所述支撑的所述第一面上,c)将一层成膜材料沉积于所述胶体粒子和支撑上,d)将胶黏材料施加于被成膜材料覆盖的胶体粒子上,e)通过将胶黏材料和胶体粒子一起剥离的方法,将所述覆盖的胶体粒子从所述支撑上进行机械移除,其中至少部分被成膜材料覆盖的胶体粒子从支撑上移除,而带有孔径的成膜材料仍保留于支撑上,f)对于所述带有孔径的膜,在所述支撑上贯穿支撑的整个厚度形成窗口,使所述膜从支撑的第二面显露出来。
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