[发明专利]瀑布式层流蚀刻切割方法无效
| 申请号： | 200910045698.8 | 申请日： | 2009-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN101514081A | 公开（公告）日： | 2009-08-26 |
| 发明（设计）人： | 严立巍;周旭 | 申请（专利权）人： | 上海仪捷光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 上海天翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 吕 伴 |
| 地址： | 201300上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 瀑布式层流蚀刻切割方法，包含以下步骤：首先在薄形化玻璃基板的背面粘贴一层底层保护膜，再将与切割晶粒的形状相同的面层保护膜设置在薄形化玻璃基板的正面；然后将该薄形化玻璃基板采用面层保护膜朝上的方式固定在载物台上，最后用蚀刻溶液呈瀑布流经薄形化玻璃基板的正面，将末被面层保护膜保护的玻璃蚀刻掉，揭开面层保护膜，即得到完整晶粒形状的晶粒。采用上述方法后，可以使切割产生的切割道很窄，从而减少了对产品的伤害，非机械力切割也避免了传统切割存在的崩角和分层现象。完成后的产品也不需要磨边，节省了时间和作业成本。蚀刻液可以反复利用也降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 瀑布 层流 蚀刻 切割 方法 | ||
【主权项】：
1.瀑布式层流蚀刻切割方法，其特征在于，包含以下步骤：首先在薄形化玻璃基板的背面粘贴一层底层保护膜，再将与切割晶粒的形状相同的面层保护膜设置在薄形化玻璃基板的正面；然后将该薄形化玻璃基板采用面层保护膜朝上的方式固定在载物台上，最后用蚀刻溶液呈瀑布流经薄形化玻璃基板的正面，将末被面层保护膜保护的玻璃蚀刻掉，揭开面层保护膜，即得到完整晶粒形状的晶粒。
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