[实用新型]应力状态下纳米材料力电性能与显微结构测量装置无效
| 申请号： | 200820124520.3 | 申请日： | 2008-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN201340380Y | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 韩晓东;刘攀;张跃飞;岳永海;张泽 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | G01N13/10 | 分类号： | G01N13/10;G01B15/06 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 萍 |
| 地址： | 100124*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种应力状态下测量纳米材料力电性能与结构的装置。本实用新型在一个表面镀绝缘漆的金属绝缘环上放置两个双金属片，所述的两个双金属片平行或呈V字形放置在金属绝缘环的同一平面上，每个双金属片的一端固定在金属绝缘环上面，另一端悬空在金属绝缘环内，两个双金属片的距离控制在0.002-1mm。本实用新型提供了一种针对目前半导体及信息工业占统治地位的自上而下技术(Top-Down)的有效而简单的应力状态下单体纳米材料原位实时动态的力学-电学-显微结构相关性测量的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 应力 状态 纳米 材料 性能 显微结构 测量 装置 | ||
【主权项】：
1.应力状态下纳米材料力电性能与显微结构测量装置，其特征在于：在一个表面镀绝缘漆的金属绝缘环上放置两个双金属片，所述的两个双金属片平行或呈V字形放置在金属绝缘环的同一平面上，每个双金属片的一端固定在金属绝缘环上面，另一端悬空在金属绝缘环内，两个双金属片的距离控制在0.002-1mm。
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