[实用新型]一种预还原炉煤气分配器无效
| 申请号： | 200820080212.5 | 申请日： | 2008-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN201193241Y | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 祁四清;段国建;全强;曹洪良;张波;吴志宏;殷宝铎 | 申请（专利权）人： | 中冶京诚工程技术有限公司 |
| 主分类号： | C22B5/12 | 分类号： | C22B5/12 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100176北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种预还原炉煤气分配器，包括煤气主管通道及和煤气主管通道相连通的煤气环管通道，所述煤气环管通道上均匀连通有多个煤气分配通道。所述煤气主管通道与煤气环管通道连接处为相同材质的组合砖结构。所述煤气环管通道内壁设置有抗煤气冲刷、耐侵蚀的耐火砖层。所述煤气分配通道为长条喇叭口形，煤气分配通道管径自煤气分配通道与煤气环管通道连接处向煤气分配通道出口处扩大，煤气分配通道出口处为耐火材料结构。本实用新型能够将煤气均匀地分配于预还原炉内，在抗煤气冲刷、耐侵蚀的同时，保证通道不变形，不泄漏煤气；延长了设备的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 还原 煤气 分配器 | ||
【主权项】：
1.一种预还原炉煤气分配器，包括煤气主管通道及和煤气主管通道相连通的煤气环管通道，其特征在于：所述煤气环管通道上均匀连通有多个煤气分配通道。
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- 侯军涛;鲁毅;郭磊;任怀智;王尧 - 西安庄信新材料科技有限公司
- 2018-12-11 - 2020-06-16 - C22B5/12
- 本发明公开了一种钛建材表面处理方法，包括以下步骤：步骤一：选取高纯度、无杂质金属钛颗粒通过除油剂进行清洗，对其进行脱水烘干处理后送至冶炼炉内进行初步高温冶炼，且在内加入还原剂，以金属热还原法处理得到金属钛；步骤二：将步骤一得到得到金属钛冷却后送至精轧机进行初步精轧，精轧后根据所需规格进行斩切处理，得到钛建材；步骤三：选取颗粒直径为0.4‑0.6mm的喷丸颗粒，对步骤二得到的钛建材以压力值为1‑1.2MPa且弹丸流量为10‑15Kg/min的条件下进行喷丸处理法对其表面进行喷丸处理，得到硬度为600‑815MPa的的钛建材。在钛建材着色后提高钛建材的装饰性的同时，增加了钛建材表面的耐磨性和抗腐蚀效果，对钛建材的使用寿命大幅增加。
- 一种闪速冶金用环形给料喷嘴-201921470399.4
- 夏明;黄小兵;邱江波 - 天津闪速炼铁技术有限公司
- 2019-09-05 - 2020-06-16 - C22B5/12
- 本实用新型创造提供了一种闪速冶金用环形给料喷嘴，包括中心处的供气部件及其外围的进料部件，所述供气部件下部设置有锥形体，所述锥形体设置有锥形的侧壁，所述锥形的侧壁设置有气孔，所述进料部件包括若干道横截面为环状的加料槽。本实用新型创造结构简单，可灵活设计环形喷嘴的直径，使喷嘴在反应塔顶的安装位置满足生产需要，适用于金属氧化物的闪速冶炼。
- 一种氢气还原炉蒸汽加湿装置-201921148100.3
- 赵立夫;钟伟 - 赵立夫
- 2019-07-22 - 2020-05-19 - C22B5/12
- 本实用新型适用于粗晶钨粉制造领域，提供一种氢气还原炉蒸汽加湿装置，包括氢气供应模块、蒸汽锅炉、加速混合器和氢气还原炉，氢气供应模块产生的氢气和蒸汽锅炉产生的蒸汽经加速混合器混合后再通入氢气还原炉内，通过氢气和蒸汽在混合室内混合后进入氢气还原炉中，调节开度阀可以控制蒸汽的量进而改变氢气的露点，使中粗钨晶粒较传统工艺钨粉粒度更均匀、质量更好、减少工序、提高了生产效率，并且工艺气氛露点线性可控，较现有技术稳定性强、合格率高，同时可加大原料装载量，从而提升产量。
- 用于还原含有金属氧化物的块状物件的装置-201821882235.8
- F.贝内;M.里奥波塞德;R.普姆;W.斯泰瑞;J.乌尔姆 - 首要金属科技奥地利有限责任公司
- 2018-11-15 - 2019-10-29 - C22B5/12
- 一种用于还原含有金属氧化物的块状物件的装置，所述还原通过使用还原气体而进行的直接还原来进行，该装置具有还原气体通道体，其把全部的还原气体从还原气体输送管路输送到还原井筒体的内室中，所述还原气体通道体伸入到至少一个还原气体输送单元中，该至少一个还原气体输送单元用于把还原气体引入到在还原气体通道体下面的空间区域中。每个还原气体通道体都存在有至少一个馈送管路，其中，馈送管路以管口通入到还原气体通道体的还原气体输送单元中。管口按照由多个子方案构成的组的至少一个子方案：至少部分地布置在还原气体通道体的上面；在水平地观察的情况下至少部分地布置在还原气体通道体的旁边；至少部分地布置在还原气体通道体的下面。
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