[实用新型]电阻加热钼坩埚提拉法激光晶体生长装置有效

专利信息
申请号: 200820063601.7 申请日: 2008-05-30
公开(公告)号: CN201201983Y 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 周世斌;汤海涛;王国强;叶茂 申请(专利权)人: 成都东骏激光有限责任公司
主分类号: C30B15/18 分类号: C30B15/18
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 代理人: 吴彦峰
地址: 611630四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种电阻加热钼坩埚提拉法激光晶体生长装置,属于激光晶体结晶工艺学领域;包括通过氧化铝垫片连接电极板的托盘,以及置于托盘上的钼侧保温屏,钼侧保温屏上端设有钼上保温屏,钼侧保温屏内侧装有电阻加热器,钼埚托通过连接体与电极板连接,钼埚托的外侧罩有钼台罩,钼埚托上设有钼坩埚,钼坩埚内装有熔体,电阻加热器设置在钼坩埚的周围,电阻加热器和钼侧保温屏之间还设有内屏蔽筒,钼坩埚上方设有钼籽晶杆,钼籽晶杆下端装有籽晶,籽晶下端位于熔体上方,且钼籽晶杆、籽晶均位于钼上保温屏的内侧;本实用新型具有结构简单、温场稳定、投入小,可实现高浓度的无核心、无位错、无散射的激光晶体生长,并且生长周期短、晶体成品率高(>95%)、生长成本低。
搜索关键词: 电阻 加热 坩埚 提拉法 激光 晶体生长 装置
【主权项】:
1、一种电阻加热钼坩埚提拉法激光晶体生长装置,包括通过氧化铝垫片(19)连接电极板(16)的托盘(15),以及置于托盘(15)上的钼侧保温屏(10、11、12),钼侧保温屏(10、11、12)上端设有钼上保温屏(5、6、7),其特征在于:钼侧保温屏(12)内侧装有电阻加热器(13),钼埚托(9)通过连接体(18)与电极板(16)连接,钼埚托(9)的外侧罩有钼台罩(17),钼埚托(9)上设有钼坩埚(8),钼坩埚(8)内装有熔体(4),电阻加热器(13)设置在钼坩埚(8)的周围,电阻加热器(13)和钼侧保温屏(12)之间还设有内屏蔽筒(14),钼坩埚(8)上方设有钼籽晶杆(1),钼籽晶杆(1)下端装有籽晶(2),籽晶(2)下端位于熔体(4)上方,且钼籽晶杆(1)、籽晶(2)均位于钼上保温屏(5、6、7)的内侧。
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