[发明专利]间歇涂布方法和间歇涂布装置有效
| 申请号： | 200810092118.6 | 申请日： | 2008-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101279315A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 荻野忠弘;户内八郎;甲田正纪;鱼井将详 | 申请（专利权）人： | 中外炉工业株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/26 | 分类号： | B05D1/26;B05C5/02;B05C11/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 马淑香 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的技术问题在于从涂布模头向移动的基材间歇地涂布涂布液时能在基材上以一定的均匀的厚度涂布涂布液。从设于涂布模头(10)的前端面(10a)的吐出口(11)向移动的片状基材(1)间歇地提供涂布液(12)而在基材上间歇地涂布涂布液时，进行如下工序：在开始从涂布模头向基材提供涂布液时，使涂布模头与基材同向移动的工序；使该涂布模头停止移动或与基材反向移动，从涂布模头向移动的基材涂布涂布液的工序；以及在停止从该涂布模头向基材提供涂布液时，使该涂布模头与上述基材同向移动的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 间歇 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种间歇涂布方法，从设于涂布模头前端面的狭缝状吐出口向移动的片状基材间歇地提供涂布液，从而在所述基材上间歇地涂布涂布液，其特征在于，具有如下工序：在开始从所述涂布模头向基材提供涂布液的时刻，使所述涂布模头与所述基材同向移动的工序；使所述涂布模头停止移动或使涂布模头与基材反向移动，从涂布模头向移动的基材涂布涂布液的工序；以及在停止从所述涂布模头向基材提供涂布液的时刻，使所述涂布模头与所述基材同向移动的工序。
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