[发明专利]液晶显示装置及其制造方法有效
申请号: | 200810091792.2 | 申请日: | 2008-04-14 |
公开(公告)号: | CN101285968A | 公开(公告)日: | 2008-10-15 |
发明(设计)人: | 元松俊彦;杉本光弘 | 申请(专利权)人: | NEC液晶技术株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/1333 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王旭 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种液晶显示装置及其制造方法。在将取向材料涂敷到形成液晶面板的CF基板和TFT基板的表面以形成取向膜中,形成取向膜以至少覆盖其中以矩阵方式排列像素的显示区,而在前述取向膜外侧的区域中,例如在介于显示区和被密封材料包围的密封区之间的区域中,形成具有多孔膜结构的多孔取向膜,该多孔取向膜具有比前述取向膜更高的杂质吸附性质,由此在显示区外侧的区域中形成的多孔取向膜可以有效率地吸附污染物,比如由密封材料产生的残留杂质离子和密封材料的未固化组分,以防止污染物渗透到显示区中并且被固定在其中。 | ||
搜索关键词: | 液晶 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种液晶显示装置,其包括:一对基板;取向膜,形成在所述一对基板的每一个对向面上;密封材料,形成在至少一个所述基板的显示区外侧;以及液晶材料,封装在所述一对基板之间,其中:所述取向膜包含第一取向膜和第二取向膜,其中形成第一取向膜以至少覆盖所述显示区,并且在位于所述第一取向膜向外并且所述密封材料向内的区域中形成第二取向膜;并且所述第二取向膜具有比所述第一取向膜高的离子杂质吸附性质。
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