[发明专利]表面修饰的碳纳米管材料及其制造方法和电子部件与电子器件有效
| 申请号： | 200810090317.3 | 申请日： | 2008-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101274757A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 浅野高治 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张龙哺 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及制造表面修饰的碳纳米管材料的方法，该方法包括将碳纳米管材料曝光于紫外线中，并向碳纳米管材料提供含硅化合物，其中所述含硅化合物能够通过紫外线活化修饰碳纳米管材料的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 修饰 纳米 材料 及其 制造 方法 电子 部件 电子器件 | ||
【主权项】：
1.制造表面修饰的碳纳米管材料的方法，该方法包括将碳纳米管材料曝光于紫外线中，并向碳纳米管材料提供含硅化合物。
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