[发明专利]用于平板显示器的化学气相沉积设备无效
申请号: | 200810089798.6 | 申请日: | 2008-04-10 |
公开(公告)号: | CN101285177A | 公开(公告)日: | 2008-10-15 |
发明(设计)人: | 李相琝;张祥来 | 申请(专利权)人: | SFA工程股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/458 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 韩国忠清南道牙*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明是关于一种用于平板显示器的化学气相沉积设备,包含:基座,其安装在腔室中,能够升高,且具有上面加载平板显示器的上表面;柱,其具有耦合到基座的后表面的中心区域的上端,和向下穿过腔室而暴露的下端,从而支撑基座,使其能够升高;以及基座支撑件,其在腔室中耦合到柱,且允许上表面的至少一区域接触并支撑基座的后表面,从而从基座的下侧支撑基座,以防止基座下垂。 | ||
搜索关键词: | 用于 平板 显示器 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于平板显示器的化学气相沉积设备,其特征在于其包括:基座,其安装在腔室中,能够升高,且具有上面加载所述平板显示器的上表面;柱,其具有耦合到所述基座的后表面的中心区域的上端,和向下穿过所述腔室而暴露的下端,从而支撑所述基座,使其能够升高;以及基座支撑件,其在所述腔室中耦合到所述柱,且允许其上表面的至少一区域接触并支撑所述基座的所述后表面,从而从所述基座的下侧支撑所述基座,以防止所述基座下垂。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的