[发明专利]试样分析仪有效
申请号: | 200810084888.6 | 申请日: | 2008-03-28 |
公开(公告)号: | CN101275960A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 若宫裕二;奥崎智裕;竹原久人 | 申请(专利权)人: | 希森美康株式会社 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00;G01N33/50 |
代理公司: | 北京金之桥知识产权代理有限公司 | 代理人: | 梁朝玉;刘良勇 |
地址: | 日本兵库县神户市*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种试样分析仪,包括:测定含试样和试剂的测定试样的测定装置;根据上述测定装置测定含标准试样和上述试剂的测定用标准试样所得第一测定数据绘制校正曲线的校正曲线绘制单元;赋予上述校正曲线绘制单元绘制的上述校正曲线以校正曲线特定信息、用于特定上述校正曲线的校正曲线特定信息附加单元;根据上述校正曲线绘制单元绘制的上述校正曲线对上述测定装置测定上述测定试样所得第二测定数据进行处理、取得分析结果的测定数据处理单元;将上述测定数据处理单元获取的上述分析结果与赋予上述第二测定数据处理所用上述校正曲线的该校正曲线特定信息对应存储的分析结果存储单元。 | ||
搜索关键词: | 试样 分析 | ||
【主权项】:
1.一种试样分析仪,包括:测定装置,测定含试样和试剂的测定试样;校正曲线绘制单元,根据所述测定装置测定含标准试样和所述试剂的测定用标准试样所得第一测定数据绘制校正曲线;校正曲线特定信息附加单元,赋予所述校正曲线绘制单元绘制的所述校正曲线以用于确定所述校正曲线的校正曲线特定信息;测定数据处理单元,根据所述校正曲线绘制单元绘制的所述校正曲线,对所述测定装置测定所述测定试样所获得的第二测定数据进行处理,以取得分析结果;以及分析结果存储单元,将所述测定数据处理单元获取的所述分析结果与赋予所述第二测定数据处理用所述校正曲线的所述校正曲线特定信息对应存储。
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