[发明专利]双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置及其测量方法无效

专利信息
申请号: 200810034820.7 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101251472A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 朱冠超;方明;申雁鸣;易葵 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01N21/17 分类号: G01N21/17;G01B11/06;G06F19/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置及其测量方法,该装置包括搭建在镀膜机真空室外的半导体激光器、双光束分束准直器、晶控仪、位敏光电探测器、A/D采集卡和计算机,以及安装在真空室内的第三反射镜,晶控探头。半导体激光光束经过双光束分束准直器分成两束平行光,通过镀膜机观察窗口进入镀膜室,调整入射光照射到待测基片上,两束反射光经反射镜调整方向后由观察窗口出来,被位敏光电探测器接收,计算机实时采集位敏光电探测器信号和晶控仪关于薄膜厚度和速率的信息,进行数据处理,即时显示光学薄膜应力的实时变化信息。本发明具有结构简单、操作方便、兼容和抗干扰能力强的特点,可以在线获得光学薄膜应力的信息。
搜索关键词: 光束 在线 实时 测量 光学薄膜 应力 装置 及其 测量方法
【主权项】:
1、一种双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置,其特征在于该装置包括半导体激光器(1)、由分束镜(2)与第一反射镜(3)和第二反射镜(4)组合而成的双光束分束准直器、第三反射镜(5)、具有晶控探头(7)的晶控仪(8)、位敏光电探测器(11)、A/D采集卡(10)和计算机(9),其位置关系如下:在镀膜机外设置所述的半导体激光器(1)、双光束分束准直器,晶控仪(8)、位敏光电探测器(11)、A/D采集卡(10)和计算机(9),在真空室内安设待测的镀膜基片(6)、所述的第三反射镜(5)和晶控探头(7),使所述的半导体激光器(1)的出射光经所述的双光束分束准直器后变成两束平行光,由镀膜机真空室的观察窗口照射到待测的镀膜基片(6)表面,其反射光经所述的第三反射镜(5)反射后从所述的观察窗口出射到真空室外的位敏光电探测器(11)上,该位敏光电探测器(11)探测的反射光位移偏转量由A/D采集卡(10)输入到计算机(9);同时所述的晶控探头(7)实时记录镀制光学薄膜过程中薄膜厚度和沉积速率的变化,由所述的晶控仪(8)输入所述的计算机(9)。
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