[发明专利]一种抗菌性纳滤膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810032415.1 申请日: 2008-01-08
公开(公告)号: CN101298026A 公开(公告)日: 2008-11-05
发明(设计)人: 施利毅;方建慧;曹志源;赖特明 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: B01D71/68 分类号: B01D71/68;B01D69/00;B01D65/02
代理公司: 上海上大专利事务所 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种抗菌性纳滤膜的制备方法,具体地说,是涉及采用含银聚电解质络合物和利用层层静电自组装技术制备抗菌性纳滤膜的方法,属膜过滤分离技术领域。本发明一种抗菌性纳滤膜的制备方法,其特征在于:通过含银的聚阳离子溶液在基膜表面的交替沉积,再用还原剂原位还原的方法制得具有抗菌性能的含银纳滤膜;其制备过程包括:(1)基膜聚砜超滤膜的前处理;(2)基膜表面聚电解质初生层的生成;(3)抗菌超薄分离层的制备,将前述薄膜浸入含银的聚阳离子溶液中,即聚烯丙基氯化铵-氯化银溶液中,浸泡5~30分钟,并重复多次,然后再将其浸入还原剂NaBH4溶液中,浸泡2~24小时,最后得到抗菌性纳滤膜。该纳滤膜对水中微生物有抑菌杀菌性能,其抗菌率达99.5%以上。
搜索关键词: 一种 抗菌 滤膜 制备 方法
【主权项】:
1、一种抗菌性纳滤膜的制备方法,其特征在于:通过含银的聚阳离子溶液和聚阴离子溶液在基膜表面的交替沉积,再用还原剂原位还原的方法制得具有抗菌性能的含银纳滤膜;其制备方法的过程和步骤如下:a.基膜的前处理:用纯水将基膜清洗干净之后,再将其置于纯水中浸泡5~10小时;所述的基膜为聚砜超滤膜;b.基膜表面聚电解质初生层的生成:将上述经处理的基膜浸入聚阴离子溶液中5~30分钟,随后用纯水洗涤,并浸泡5~30分钟,在基膜表面形成带负电的膜层;然后再浸入聚阳离子溶液中5~30分钟,随后用纯水洗涤,并浸泡5~30分钟;重复上述步骤,直至得到所需层数的聚电解质初生层;层数为2~10个双层;所述的聚阴离子溶液为苯乙烯磺酸钠溶液,其浓度为0.01~0.05mol/L,含有0.5~2.5mol/L的NaCl,pH值为2~3;或者为聚丙烯酸钠溶液,其浓度为0.001~0.005mol/L,pH值为4~5;所述的聚阳离子溶液为聚二烯丙基二甲基氯化铵溶液,其浓度为0.01~0.05mol/L,含有0.5~2.5mol/L的NaCl,pH值为5~6;c.抗菌超薄分离层的制备:将上述长有聚电解质初生层的膜浸入所述的聚阴离子溶液中5~30分钟,用纯水洗涤,并浸泡5~30分钟;再浸入含银的聚阳离子溶液中5~30分钟,随后用纯水洗涤,并浸泡5~30分钟;重复上述步骤,直至得到所需层数;层数为2~10个双层;然后再将其放入还原剂NaBH4溶液中浸泡2~24小时;NaBH4的浓度为1~10mmol/L;随后再在纯水中浸泡2~10小时,最后即制得抗菌性纳滤膜;所述的含银聚阳离子溶液为聚丙基氯化铵-氯化银溶液;其中含聚烯丙基氯化铵5~15mmol/L,AgNO30.5~5mmol/L。
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