[发明专利]基于纳米压印技术的自支撑透射金属光栅及制备方法

摘要

本发明涉及一种基于纳米压印技术制备的，用于深紫外线、软X射线和物质粒子衍射的高密度、自支撑透射金属光栅，金属光栅的线密度＞2000条/毫米，光栅无衬底支撑，光栅金属线条间是镂空的，金属线条由足够强度、较大周期(1～40微米)的金属网络结构支撑，构成光栅的金属材料是金。其制作步骤：1)纳米压印技术、反应离子刻蚀工艺、电化学镀膜工艺在衬底上制备高密度金属光栅；2)光刻工艺和电化学镀膜工艺制备大周期金属网络支撑结构；3)化学刻蚀方法除去衬底使光栅镂空；4)聚焦离子束技术对透射光栅在制作过程中产生的局部缺陷进行修复。本发明以纳米压印技术制备光栅结构，制作方法便捷可靠、大幅度降低了制作成本。

主权项

1.一种基于纳米压印技术的自支撑透射金属光栅，包括金属结构和基片，金属结构设在基片上，其特征是金属结构包括光栅金属线条和支撑光栅金属线条的金属网络结构；所述光栅金属线条间是镂空的，基片上光栅金属线条位置对应处是镂空的；光栅金属线条嵌在金属网络结构的各个网格内；所述光栅金属线条构成的光栅金属条纹的线密度范围是2000条/毫米～10000条/毫米；光栅金属线条厚度范围是300～500纳米。