[发明专利]用于在低温下输送冷却的设备的低温恒温器无效
| 申请号： | 200810002908.0 | 申请日： | 2008-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN101221000A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | A·F·阿特金斯;M·J·M·克瑞普 | 申请（专利权）人： | 西门子磁体技术有限公司 |
| 主分类号： | F25B19/00 | 分类号： | F25B19/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;黄力行 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 一种低温恒温器，用于在较高低温下输送冷却设备，该低温恒温器布置成通过在较低低温下沸腾的工作冷冻剂来冷却该冷却设备，该低温恒温器包括真空容器，该真空容器包围该冷却设备，并确定了在真空容器和冷却的设备之间的标称真空层。还提供了用于减少该标称真空层受到真空污染物的污染的装置，该真空污染物在该较高低温下以气体形式存在于真空层中，但是在该较低低温下保持为液体或固体形式。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 低温 输送 冷却 设备 恒温器 | ||
【主权项】：
1.一种低温恒温器，用于在较高低温下输送冷却设备，该低温恒温器布置成由在较低低温下沸腾的工作冷冻剂来冷却该冷却设备，该低温恒温器包括真空容器，该真空容器包围该冷却设备，并在该真空容器与该冷却设备之间确定了一标称真空层，其特征在于，吸气材料布置在该该标称真空层中，以便吸收真空污染物的分子，该真空污染物在该较高低温下以气体形式存在于该真空层中，但是在该较低低温下保持为液体或固体形式。
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