[实用新型]密封组件有效
申请号: | 200720153231.1 | 申请日: | 2007-07-23 |
公开(公告)号: | CN201083262Y | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 潘世栋 | 申请(专利权)人: | 凯奕科技股份有限公司 |
主分类号: | F16J15/00 | 分类号: | F16J15/00 |
代理公司: | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 台湾省桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种密封组件,其用以与鸠尾槽相配合。鸠尾槽具有开口、第一侧壁、第二侧壁以及底面。密封组件包含第一弧面、第二弧面、第三弧面以及平面。密封组件可通过第一弧面或第二弧面旋入鸠尾槽。当密封组件位于鸠尾槽中,第一间隙形成于第一弧面、鸠尾槽的第一侧壁以及底面间,第二间隙形成于第二弧面、鸠尾槽的第二侧壁以及底面间,第三弧面凸出于鸠尾槽的开口,并且平面与鸠尾槽的底面相接触。 | ||
搜索关键词: | 密封 组件 | ||
【主权项】:
1.一种密封组件,用以与一鸠尾槽相配合,其特征在于:所述鸠尾槽具有一开口、一第一侧壁、一第二侧壁以及一底面,所述密封组件包含:一第一弧面;一第二弧面,相对于所述第一弧面;一第三弧面,衔接在所述第一弧面以及所述第二弧面之间;以及一平面,相对于所述第三弧面,并且衔接在所述第一弧面以及所述第二弧面之间;其中,所述密封组件通过所述第一弧面或所述第二弧面旋入所述鸠尾槽,当所述密封组件位于所述鸠尾槽中,一第一间隙形成于所述第一弧面、所述第一侧壁以及所述底面之间,一第二间隙形成于所述第二弧面、所述第二侧壁以及所述底面之间,所述第三弧面凸出于所述开口,并且所述平面与所述底面相接触。
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