[发明专利]磁阻效应元件以及磁存储器无效
申请号: | 200710102315.7 | 申请日: | 2007-04-27 |
公开(公告)号: | CN101064114A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
发明(设计)人: | 齐藤好昭;杉山英行;井口智明 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G11B5/39 | 分类号: | G11B5/39;G11C11/15;H01L43/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 曲瑞 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种磁阻效应元件以及磁存储器,即使进行微观化也具有热稳定性,并且可以用低电流密度实现磁记录层的磁化反转。该磁阻效应元件具备:磁化方向固定的磁化固定层;磁化方向可变的磁化自由层;设置在磁化固定层与磁化自由层之间的隧道绝缘层;设置在磁化固定层的、与隧道绝缘层相反的一侧的第1反铁磁性层;以及设置在磁化自由层的、与隧道绝缘层相反的一侧,并且膜厚比第1反铁磁性层薄的第2反铁磁性层,其中,通过向磁化自由层注入自旋极化后的电子,可以使磁化自由层的磁化方向反转。 | ||
搜索关键词: | 磁阻 效应 元件 以及 磁存储器 | ||
【主权项】:
1.一种磁阻效应元件,其特征在于,具备:磁化方向固定的磁化固定层;磁化自由层,其磁化方向可以通过将自旋极化后的电子注入该磁化自由层而改变;隧道绝缘层,设置在上述磁化固定层与上述磁化自由层之间;第1反铁磁性层,设置在上述磁化固定层的与上述隧道绝缘层相反的一侧;以及第2反铁磁性层,设置在上述磁化自由层的与上述隧道绝缘层相反的一侧,并且厚度比上述第1反铁磁性层薄。
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