[发明专利]光阻剂有效
申请号: | 200710079606.9 | 申请日: | 2007-02-26 |
公开(公告)号: | CN101256361A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 郭光埌;邱贞文;温世豪;陈健龙;赖育成 | 申请(专利权)人: | 新应材股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/028;G03F7/004 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 台湾省桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明的光阻剂为一种新的负型光阻组成,其主要成分为:含有不饱合乙烯基或甲基乙烯基的高分子树脂、颜料、感光起始剂、单体、溶剂,以及添加剂;含有不饱合乙烯基或甲基乙烯基的高分子树脂由主单体及次单体所聚合而成。主单体可为甲基丙烯酸环己酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸异波罗洲酯、丙烯酸异波罗洲酯;次单体可为压克力单体。 | ||
搜索关键词: | 光阻剂 | ||
【主权项】:
1. 一种光阻剂,由含有不饱合乙烯基或甲基乙烯基的高分子树脂、感光起始剂、单体以及溶剂所组成;其中,该含有不饱合乙烯基或甲基乙烯基的高分子树脂至少包含不饱合乙烯基或甲基乙烯基,及由主单体、次单体所聚合而成,该主单体为选自甲基丙烯酸环己酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸异波罗洲酯、丙烯酸异波罗洲酯中任一种或以上主单体的组合;该次单体为压克力单体。
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